Все разделы / Электроника /
Страницу Назад
Поискать другие аналоги этой работы
![]() Электронно-лучевая литографияID: 91624Дата закачки: 18 Февраля 2013 Автор: Razorvashka Закачал: Razorvashka ![]() Тип работы: Обзор Форматы файлов: Microsoft Word Сдано в учебном заведении: РГРТУ Описание: Процесс фотолитографии достиг в настоящее время высокой степени совершенства. На современных автоматических линиях пластины кремния обрабатываются без участия человека. Однако разрешающая способность ФЛ достигла теоретического предела, равного ширине линии в 0,8 ... 1 мкм. Для создания субмикронных размеров линий необходимо переходить к другим методам облучения резистов, используя другие длины волн излучения, например облучение электронами, рентгеновскими квантами и ионами. Эти методы объединяются под одним общим названием элионной литографии. Элионная литография (ЭЛ) позволяет расширить пределы ФЛ за счет более высокой разрешающей способности. Поскольку длина волны электронов при энергии 10 ... 25 кэВ меньше 10-4 мкм, а длина волны рентгеновского излучения 2 ... 10 им, то дифракционные и интерференционные эффекты пренебрежимо малы. Разрешающая способность ЭЛ ограничивается аберрациями отклоняющих систем и взаимодействием частиц друг с другом. Размер файла: 271,3 Кбайт Фаил: ![]() ![]() ![]() Скачано: 7 Коментариев: 0 |
Есть вопросы? Посмотри часто задаваемые вопросы и ответы на них. Опять не то? Мы можем помочь сделать! Некоторые похожие работы:Исследование физико-химических процессов фотолитографииЛукашин А.В., Елисеев А.А. Физические методы синтеза наноматериалов Технология оптической контактной литографии Ответы на 20 экзаменационных вопроса по дисциплине: «Устройства интегральной и функциональной электроник» Ещё искать по базе с такими же ключевыми словами. |
Вход в аккаунт:
Страницу Назад
Cодержание / Электроника / Электронно-лучевая литография