Страницу Назад
Поискать другие аналоги этой работы
300 Курсовая работа. По дисциплине Физико-химические основы технологии изделий электроники и наноэлектроники. Расчёт газотранспортных и диффузионных процессов в технологии электронных приборов. Вариант №2. ЛЭТИ. 2021ID: 235895Дата закачки: 03 Мая 2023 Продавец: DiKey (Напишите, если есть вопросы) Посмотреть другие работы этого продавца Тип работы: Работа Курсовая Форматы файлов: Microsoft Word Сдано в учебном заведении: Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет ЛЭТИ Описание: Курсовая работа. По дисциплине Физико-химические основы технологии изделий электроники и наноэлектроники. Расчёт газотранспортных и диффузионных процессов в технологии электронных приборов. Вариант №2. ЛЭТИ. 2021 ЗАДАНИЕ Часть 1. Химическое осаждение арсенида галлия из газовой фазы в системе GaAs – H2O – H2. Исходные данные: - Температурный интервал Т = (700 …. 1300 ) К - Относительная влажность водорода: 7103…. 101 . - Суммарное давление в системе 5103 Па 1. Рассчитать и построить kp1(T); kp2(T); kp3(T). 2. Определить степень превращения в химической системе. 3. Рассчитать и построить зависимости pH2O(T,a); pGa2O(T,a); pAs2(T,a). 4. Рассчитать и построить температурные зависимости G2(T,a) ; G3(T,a) для заданных a. 5. Определить область равновесия газовой фазы и требуемой стехиометричной твердой фазы. Часть 2 Диффузионное легирование полупроводников. Рассчитать профиль распределения концентрации примеси в n-p-n-структуре, полученной последовательной диффузией бора и фосфора в кремнии. Исходное удельное сопротивление в полупроводнике n-типа 0,15 Омсм. Режимы диффузии : 1. Ta = 1200С, ta = 1 ч, Tд = 1100С, tд = 2 ч. 2. Ta = 1100С, ta = 2 ч, Tд = 1250С, tд = 1 ч Поверхностная плотность атомов бора Na = 510 14 см – 2 , диффузия фосфора ведётся из неограниченного источника примеси с поверхностной концентрацией, равной предельной растворимости. Работа должна содержать выводы и технологические рекомендации СОДЕРЖАНИЕ Введение 6 1. Химическое осаждение арсенида галлия из газовой фазы в системе GaAs – H2O – H2. 7 1.1. Расчет констант химического равновесия 7 1.2. Расчет состава газовой фазы 13 1.3. Определение области стехиометричности твердой фазы 15 2. Диффузионное легирование полупроводников 18 2.1. 1-й режим диффузии 18 2.2. 2-й режим диффузии 21 Заключение 23 Список использованных источников 24 ВВЕДЕНИЕ Целью данной курсовой работы является анализ таких технологических процессов, как химическое осаждение из газовой фазы и диффузионное легирование полупроводников. Для данных процессов будут рассчитаны основные термодинамические параметры и определены технологические особенности – определена область стехиометричности твердой фазы, область равновесия газовой фазы и условия их реализации, будет рассчитан профиль распределения концентрации примеси в n-p-n-структуре, полученной последовательной диффузией. ЗАКЛЮЧЕНИЕ В первой части работы была определена область стехиометричности твердой фазы – область, в которой протекает в прямом направлении только основная реакция (рисунок 9). По полученному результату можно сделать вывод, что осаждение арсенида галия из газовой фазы в данной системе следует проводить при температуре меньше 851 К и относительной влажности водорода меньше 0.02. Во второй части работы был рассмотрен процесс последовательной диффузии полупроводника при 2-х режимах диффузии с различной температурой и временем. По полученным результатам можно сделать вывод, что чтобы получить необходимую структуру необходимо правильно выбрать время легирования и температуру для каждого типа примеси. В 1-м режиме работы удалось получить необходимую структуру и рассчитать глубину залегания эмиттерной и коллекторной примеси, на графике суммарного распределения концентрации (рисунок 11) видны характерные для n-p и p-n переходов падения концентрации. Во 2-м режиме диффузии получить необходимую структуру не удалось. Комментарии: 2021 Размер файла: 1,3 Мбайт Фаил: ![]() ------------------- Обратите внимание, что преподаватели часто переставляют варианты и меняют исходные данные! Если вы хотите, чтобы работа точно соответствовала, смотрите исходные данные. Если их нет, обратитесь к продавцу или к нам в тех. поддержку. Имейте ввиду, что согласно гарантии возврата средств, мы не возвращаем деньги если вариант окажется не тот. -------------------
Коментариев: 0 |
||||
Есть вопросы? Посмотри часто задаваемые вопросы и ответы на них. Опять не то? Мы можем помочь сделать!
К сожалению, точных предложений нет. Рекомендуем воспользоваться поиском по базе. |
||||
Не можешь найти то что нужно? Мы можем помочь сделать! От 350 руб. за реферат, низкие цены. Спеши, предложение ограничено ! |
Вход в аккаунт:
Страницу Назад
Cодержание / Физико-химические основы технологии изделий электроники и наноэлектроники / Курсовая работа. По дисциплине Физико-химические основы технологии изделий электроники и наноэлектроники. Расчёт газотранспортных и диффузионных процессов в технологии электронных приборов. Вариант №2. ЛЭТИ. 2021