Физические основы микроэлектроники. Контрольная работа №3. Контрольная работа № 4

Цена:
150 руб.

Состав работы

material.view.file_icon 360800AF-EE3A-46FE-96A2-388A7BD7D086.docx

Необходимые программы

Работа представляет собой файл, который можно открыть в программе:
  • Microsoft Word

Описание

КОНТРОЛЬНАЯ РАБОТА No 3

Вариант No 17: Тестовые вопросы(26 62 96 124 165), Задача 4.6

КОНТРОЛЬНАЯ РАБОТА No 4

Вариант No 17: Тестовые вопросы( 46 51 115 154 234) Задача 6.7

Вопрос No 26
Покажите дисперсионные кривые - зависимости Е(к) для Ge, Si и GaAs. Ответы укажите строго в той последовательности, которая преду-смотрена в вопросе.

Вопрос No 46
Дайте правильное определение уровня Ферми.

Вопрос No 51
Что называется вырожденным электронным газом?

Вопрос No 62
Для каких полупроводников справедлив закон действующих масс?

Вопрос No 96
Какие электроны в донорном полупроводнике называются равновесными носителями заряда?

Вопрос No 115
Найдите точные формулы для дрейфовых электронного и дырочного токов.

Вопрос No 124
Как изменяется подвижность электронов в зоне проводимости GaAs в зависимости от энергии?

Вопрос No 154
Какие токи протекают через равновесный p-n переход?

Вопрос No 165
Выделите среди нижеприведенных правильное определение диффузи-онной емкости p-n перехода?

Вопрос No 234
Что такое фототранзистор?

Задача 4.6. Рассчитайте плотность тока электронов, которые находят-ся вблизи дна зоны проводимости в первой долине донорного арсенида галлия с примесью атомов серы в концентрации 2 ́1021 м-3, если полупро-водник находится в электрическом поле напряженностью 1000 В/м.

Дополнительные указания: подвижность электронов mn = 0,831 м2/В×с, температура образца Т=300 К, все примеси при этой температуре ионизи-рованы.

Задача 6.7. Рассчитайте концентрацию неравновесных дырок на ниж-ней грани германиевой пластины толщиной 0,5 мм, если на ее верхней гра-ни (плоскость х=0) создаются избыточные электронно-дырочные пары с концентрацией 8 ́1023 м-3. Коэффициент диффузии дырок Dp=4,4 ́10-3 м2/с, время жизни tp=2,8 ́10-4 с.
Физические основы микроэлектроники
Для усиления и генерации колебаний СВЧ-диапазона может быть использована аномальная зависимость скорости электронов от напряженности электрического поля в некоторых полупроводниковых соединениях, прежде всего в арсениде галлия. При этом основную роль играют процессы, происходящие в объеме полупроводника, а не в p-n-переходе. Генерацию СВЧ-колебаний в однородных образцах GaAs n-типа при напряженности постоянного электрического поля выше порогового значения впервые наблюдал Дж. Ганн в 1963 г. (поэ
User Elfa254 : 10 августа 2013
10 руб.
Экзамен по дисциплине «Физические основы микроэлектроники». Билет №22
КОНТРОЛЬНАЯ РАБОТА No 1 Таблица компоновки билетов Тестовые вопросы Задача Вариант No 22 7 23 31 40 55 2.8 Вопрос No 7 Покажите правильную зависимость потенциальной энергии электрона в отдельном (изолированном) атоме. Ответы: Вопрос No 23 Сколько электронов каждого атома в кристаллах германия или кремния принимает участие в образовании ковалентных связей с соседними атомами? Ответы: 1) по 4 электрона от каждого атома; 2) по 2 электрона; 3) по 1 электрону от каждого соседнего атома для
User freelancer : 20 апреля 2016
80 руб.
promo
Контрольная работа №1 по дисциплине "Физические основы микроэлектроники". Вариант №24
КОНТРОЛЬНАЯ РАБОТА No 1 Таблица компоновки билетов Тестовые вопросы Задача Вариант No 24 11 13 33 41 60 2.10 Вопрос No 11 Почему энергетические уровни электронов, расположенных в слое вблизи ядра атома, при образовании кристалла испытывают более слабое расщепление, чем все другие уровни? Ответы: 1) это явление связано с различием спинового (s) и магнитного (m) квантовых чисел для электронов внутренних и внешних слоев; 2) расщепление энергетических уровней электронов, расположенных во
User freelancer : 22 апреля 2016
70 руб.
Контрольная работа № 2 по дисциплине "Физические основы микроэлектроники". Вариант №22.
Вопрос No 11 Почему энергетические уровни электронов, расположенных в слое вблизи ядра атома, при образовании кристалла испытывают более слабое расщепление, чем все другие уровни? Ответы: 1) это явление связано с различием спинового (s) и магнитного (m) квантовых чисел для электронов внутренних и внешних слоев; 2) расщепление энергетических уровней электронов, расположенных во внутренних и внешних слоях, имеет одинаковый вид, т.к. уровни принадлежат одному атому; 3) вследствие экранирующего влия
User freelancer : 16 апреля 2016
300 руб.
Контрольная работа №1 по дисциплине "Физические основы микроэлектроники". Вариант №24
Вопрос No 11 Почему энергетические уровни электронов, расположенных в слое вблизи ядра атома, при образовании кристалла испытывают более слабое расщепление, чем все другие уровни? Ответы: 1) это явление связано с различием спинового (s) и магнитного (m) квантовых чисел для электронов внутренних и внешних слоев; 2) расщепление энергетических уровней электронов, расположенных во внутренних и внешних слоях, имеет одинаковый вид, т.к. уровни принадлежат одному атому; 3) вследствие экранирующ
550 руб.
Контрольная работа № 1 по дисциплине «Физические основы микроэлектроники». Вариант №22
Вопрос No 7 Покажите правильную зависимость потенциальной энергии электрона в отдельном (изолированном) атоме. Вопрос No 23 Сколько электронов каждого атома в кристаллах германия или кремния принимает участие в образовании ковалентных связей с соседними атомами? Ответы: 1) по 4 электрона от каждого атома; 2) по 2 электрона; 3) по 1 электрону от каждого соседнего атома для образования четырех ковалентных связей; 4) электроны не принимают участия в ковалентных связях между атомами. Вопрос N
650 руб.
Контрольная работа № 2 по дисциплине "Физические основы микроэлектроники". Вариант №22
Вопрос No 11 Почему энергетические уровни электронов, расположенных в слое вблизи ядра атома, при образовании кристалла испытывают более слабое расщепление, чем все другие уровни? Ответы: 1) это явление связано с различием спинового (s) и магнитного (m) квантовых чисел для электронов внутренних и внешних слоев; 2) расщепление энергетических уровней электронов, расположенных во внутренних и внешних слоях, имеет одинаковый вид, т.к. уровни принадлежат одному атому; 3) вследствие экранирующ
650 руб.
Контрольная работа №3-4 вариант 4
Вариант Номера задач Колебания и волны Оптика 4 504 514 524 534 544 604 614 624 Вариант Номера задач 4 704 714 724 734 744 754 804 824
User BOND : 25 апреля 2009
90 руб.
Лабораторная работа №1 по дисциплине: Обработка и анализ данных. Вариант 1
Задания к лабораторным работам Лабораторная работа №1. Введение в Python Задание 1 Напишите программу для решения примера (по вариантам). Предусмотрите проверку деления на ноль. Все необходимые переменные пользователь вводит через консоль. Запись |пример| означает «взять по модулю», т.е. если значение получится отрицательным, необходимо сменить знак с минуса на плюс. Для вычисления примеров вам понадобится библиотека math. Подключить ее можно, записав в ячейке кода: import math. Вариант 1.
User SibGUTI2 : 27 июля 2024
350 руб.
Лабораторная работа №1 по дисциплине: Обработка и анализ данных. Вариант 1
Задача по многоканальным телекоммуникационным системам (заочное обучение). Вариант 10
Вариант 10 На вход АИМ-модулятора поступает сигнал с полосой частот (0.6...5.8)кГц. Частота дискретизации равна 10 кГц. Определить, в какой полосе частот исходного сигнала будут наблюдаться искажения на приемной стороне при включенном ФНЧ фильтре на приеме.
User SibGOODy : 21 сентября 2023
150 руб.
promo
Совершенствование технологии и организаци восстановления деталей машин электроконтактной приваркой в гусп совхоз-заводе «дмитриевский» с разработкой конструкции установки для электроконтактной наплавки
СОДЕРЖАНИЕ ВВЕДЕНИЕ 1 АНАЛИЗ ХОЗЯЙСТВЕННОЙ ДЕЯТЕЛЬНОСТИ ГУСП СОВХОЗА-ЗАВОДА «ДМИТРИЕВСКИЙ» 1.1 Общие сведения о хозяйстве 1.2 Структура земельных угодий 1.3 Наличие и использование основных фондов 1.4 Показатели работы предприятия 1.5 Характеристика энерговооруженности машинотракторного парка. 1.6 Анализ использования тракторного парка 1.7 Выводы по анализу хозяйственной деятельности 2 СОВЕРШЕНСТВОВАНИЕ ОРГАНИЗАЦИИ И ТЕХНОЛОГИИ ВОССТАНОВЛЕНИЯ ДЕТАЛЕЙ МАШИН 2.1 Обоснование производственной пр
User Рики-Тики-Та : 24 февраля 2017
825 руб.
Термодинамика и теплопередача ТЕПЛОПЕРЕДАЧА ИрГУПС 2015 Задача 1 Вариант 0
Вычислить плотности теплового потока q через плоскую стенку толщиной δ, выполненную из указанных ниже изоляционных материалов (применяемых в вагоностроении), коэффициенты теплопроводности которых λ, Вт/(м·К), связаны с температурой следующими линейными зависимостями: шевелин λ=0,060+0,002t; мипора λ=0,035+0,002t; полистирол ПСБ-С λ=0,038+0,0036t; полиуретан ППУ-ЗС λ=0,04+0,0035t. Температуры поверхностей стенки соответственно равны t1СТ и t2СТ.
User Z24 : 3 декабря 2025
150 руб.
Термодинамика и теплопередача ТЕПЛОПЕРЕДАЧА ИрГУПС 2015 Задача 1 Вариант 0
up Наверх