20

Разработка маршрутного технологического процесса изготовления микросхемы

ID: 76202
Дата закачки: 17 Сентября 2012
Продавец: OstVER (Напишите, если есть вопросы)
    Посмотреть другие работы этого продавца

Тип работы: Работа Расчетная
Форматы файлов: Microsoft Word

Описание:
Наиболее простым способом формирования рисунка микросхемы является напыление элементов через свободные маски. Если при этом зазор между маской и подложкой отсутствует, линейные размеры элементов строго соответствуют размерам щелей в маске (метод контактной маски). Наличие зазора между под¬ложкой и маской, устранить который полностью невозможно, приводит к образо¬ванию «зоны размытости» рисунка. Причём размер этой зоны, как показывает практика, увеличивается с ростом толщины маски и клинообразности профиля её вырезов. С уменьшением же толщины снижается жёсткость маски и увеличивает¬ся её «провисание» над подложкой, что, в свою очередь, также приводит к росту зоны размытости.

Размер файла: 115,8 Кбайт
Фаил: (.rar)

Скачать

Добавить в корзину

Занесено в корзину

        Коментариев: 0

Есть вопросы? Посмотри часто задаваемые вопросы и ответы на них.
Опять не то? Мы можем помочь сделать!

Некоторые похожие работы:

Разработка технологического процесса ремонта ножа режущего аппарата зерноуборочного комбайна ДОН-1500Б в ОАО «Стародорожский райагросервис» (дипломный проект)
Совершенствование технологического процесса изготовления и восстановления вала привода мостов 2502128-10 автомобиля МАЗ в РУП “Завод Минскагропроммаш” с разработкой переналаживаемого кондуктора
Разработка технологии ремонта подборщика зерноуборочных комбайнов «Дон-1500» в ОАО «Верхнедвинский райагросервис»
Технологический процесс восстановления вала-фланца кормораздатчика ИСРК-12
Ещё искать по базе с такими же ключевыми словами.