Учебник по электронике
Состав работы
|
|
|
|
Работа представляет собой rar архив с файлами (распаковать онлайн), которые открываются в программах:
- Microsoft Word
Описание
Рассматривается принцип работы, характеристики и параметры цифровых и аналоговых микросхем. Кратко описываются технологические процессы, применяемые при изготовлении ИМС.
Основы теории п/п, p-n-переходы, диоды, Стабилитроны и стабисторы, Варикапы, Биполярные транзисторы, Полевые транзисторы
Содержание
1 Цифровые интегральные микросхемы…………………………….….5
1.1 Основы алгебры логики………………………………………………..5
1.2 Параметры ЦИМС……………………………………………………...9
1.3 Диодно-транзисторная логика………………………………………..11
1.4 Транзисторно-транзисторная логика…………………………………14
1.5 ТТЛ со сложным инвертором…………………………………………16
1.6 ТТЛ с открытым коллекторным выходом……………………………18
1.7 ТТЛ с тремя состояниями на выходе…………………………………19
1.8 ТТЛШ…………………………………………………………………...20
1.9 КМДП…………………………………………………………………...21
2 Операционный усилитель……………………………………………25
2.1 Параметры и характеристики ОУ……………………………………25
2.2 Структура ОУ…………………………………………………………26
2.3 Дифференциальный усилитель………………………………………27
2.4 Составной транзистор………………………………………………..28
2.5 Источники тока……………………………………………………….29
2.6 Схема сдвига уровня…………………………………………………29
2.7 Эмиттерный повторитель…………………………………………….31
2.8 Инвертирующий усилитель на ОУ………………………………..…31
2.9 Неинвертирующий усилитель на ОУ……………………………..…32
3 Технологические основы производства ППИМС…………..………42
3.1 Подготовительные операции…………………………………..……..42
3.2 Эпитаксия……………………………………………………...………43
3.3 Термическое окисление………………………………………………44
3.4 Литография……………………………………………………….……46
3.5 Легирование……………………………………………………………49
3.6 Нанесение тонких пленок………………………………………….….53
4 Полупроводниковые ИМС…………………………………………….56
4.1 Методы изоляции элементов в ППИМС……………………………..58
4.2 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор…………………60
4.3 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор со скрытым слоем………………………………………………………………………64
4.4 Разновидности биполярных транзисторов………………………..…65
4.5 Интегральные диоды ………………………………………………....68
4.6 Полевые транзисторы ………………………………………………...70
4.7 Полупроводниковые резисторы………………………………………75
4.8 Полупроводниковые конденсаторы …………………..…………….78
5 Гибридные ИМС…………………………………………………...….81
5.1 Подложки ГИМС………………………………………………….…..81
5.2 Резисторы ……………………………………………………………....82
5.3 Конденсаторы…………………………………………………………..84
5.4 Катушки индуктивности………………………………………………85
5.5 Пленочные проводники и контактные площадки…………….…….85
5.6 Навесные компоненты…………………………………………………86
5.7 Методы формирования заданной конфигурации пленочных элементов ГИМС…………………………………………………………………….86
Основы теории п/п, p-n-переходы, диоды, Стабилитроны и стабисторы, Варикапы, Биполярные транзисторы, Полевые транзисторы
Содержание
1 Цифровые интегральные микросхемы…………………………….….5
1.1 Основы алгебры логики………………………………………………..5
1.2 Параметры ЦИМС……………………………………………………...9
1.3 Диодно-транзисторная логика………………………………………..11
1.4 Транзисторно-транзисторная логика…………………………………14
1.5 ТТЛ со сложным инвертором…………………………………………16
1.6 ТТЛ с открытым коллекторным выходом……………………………18
1.7 ТТЛ с тремя состояниями на выходе…………………………………19
1.8 ТТЛШ…………………………………………………………………...20
1.9 КМДП…………………………………………………………………...21
2 Операционный усилитель……………………………………………25
2.1 Параметры и характеристики ОУ……………………………………25
2.2 Структура ОУ…………………………………………………………26
2.3 Дифференциальный усилитель………………………………………27
2.4 Составной транзистор………………………………………………..28
2.5 Источники тока……………………………………………………….29
2.6 Схема сдвига уровня…………………………………………………29
2.7 Эмиттерный повторитель…………………………………………….31
2.8 Инвертирующий усилитель на ОУ………………………………..…31
2.9 Неинвертирующий усилитель на ОУ……………………………..…32
3 Технологические основы производства ППИМС…………..………42
3.1 Подготовительные операции…………………………………..……..42
3.2 Эпитаксия……………………………………………………...………43
3.3 Термическое окисление………………………………………………44
3.4 Литография……………………………………………………….……46
3.5 Легирование……………………………………………………………49
3.6 Нанесение тонких пленок………………………………………….….53
4 Полупроводниковые ИМС…………………………………………….56
4.1 Методы изоляции элементов в ППИМС……………………………..58
4.2 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор…………………60
4.3 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор со скрытым слоем………………………………………………………………………64
4.4 Разновидности биполярных транзисторов………………………..…65
4.5 Интегральные диоды ………………………………………………....68
4.6 Полевые транзисторы ………………………………………………...70
4.7 Полупроводниковые резисторы………………………………………75
4.8 Полупроводниковые конденсаторы …………………..…………….78
5 Гибридные ИМС…………………………………………………...….81
5.1 Подложки ГИМС………………………………………………….…..81
5.2 Резисторы ……………………………………………………………....82
5.3 Конденсаторы…………………………………………………………..84
5.4 Катушки индуктивности………………………………………………85
5.5 Пленочные проводники и контактные площадки…………….…….85
5.6 Навесные компоненты…………………………………………………86
5.7 Методы формирования заданной конфигурации пленочных элементов ГИМС…………………………………………………………………….86
Похожие материалы
Учебник Морозов А.Г. Электротехника,электроника и импульсная техника.1987
leher63
: 8 ноября 2008
Морозов А.Г. Электротехника,электроника и импульсная техника.1987
Другие работы
Теплотехника МГУПП 2015 Задача 1.2 Вариант 01
Z24
: 7 января 2026
Газ массой М с начальными параметрами (давлением р1 и температурой t1) изотермически расширяется до увеличения объема в ε раз, а затем адиабатно сжимается до первоначального объема. Определить:
первоначальный объем и объем в конце изотермического расширения;
давление в конце изотермического расширения и адиабатного сжатия;
температуру в конце адиабатного сжатия;
изменение энтропии в процессе изотермического сжатия;
работу изотермического расширения и адиабатного сжатия.
Изобразить данные
200 руб.
Теплотехника Задача 18.36
Z24
: 21 января 2026
Для условий предыдущей задачи (р1=80 бар, t1=450 ºC, N=12000 кВт) подсчитать расход топлива в случае, если вместо комбинированной выработки электрической и тепловой энергии на ТЭЦ будет осуществлена раздельная выработка электроэнергии в конденсационной установке и теплоты в котельной низкого давления.
Конечное давление пара в конденсационной установке принять р2=0,04 бар. КПД котельной низкого давления принять тот же, что для котельной высокого давления ηк.у=0,84.
Определить для обоих случ
200 руб.
Задание 65. Вариант 22 - Сечения
Чертежи по сборнику Боголюбова 2007
: 12 октября 2024
Возможные программы для открытия данных файлов:
WinRAR (для распаковки архива *.zip или *.rar)
КОМПАС 3D не ниже 16 версии для открытия файлов *.cdw, *.m3d
Любая программа для ПДФ файлов.
Боголюбов С.К. Индивидуальные задания по курсу черчения, 1989/1994/2007.
Задание 65. Вариант 22 - Сечения.
Выполнить главный вид детали и указанные сечения. На построенных изображениях нанести размеры (часть размеров указана на наглядном изображения детали).
В состав выполненной работы входят 4 файла:
1. 3D
80 руб.
Доход и прибыль предпринимательской фирмы
Elfa254
: 23 ноября 2013
При переходе к рыночной системе экономических отношений предприятия получили самостоятельность в планировании своей хозяйственной и экономической деятельности.
Опыт доказал жизнеспособность и эффективность рыночного механизма в рациональном использовании трудовых, материальных и финансовых ресурсов, в создании гибких производств, восприимчивых к запросам потребителей и достижениям научно-технического прогресса. Рынок стимулирует предприятия к решительным действиям в овладении новыми методами хо
10 руб.