Учебник по электронике
Состав работы
|
|
|
|
Работа представляет собой rar архив с файлами (распаковать онлайн), которые открываются в программах:
- Microsoft Word
Описание
Рассматривается принцип работы, характеристики и параметры цифровых и аналоговых микросхем. Кратко описываются технологические процессы, применяемые при изготовлении ИМС.
Основы теории п/п, p-n-переходы, диоды, Стабилитроны и стабисторы, Варикапы, Биполярные транзисторы, Полевые транзисторы
Содержание
1 Цифровые интегральные микросхемы…………………………….….5
1.1 Основы алгебры логики………………………………………………..5
1.2 Параметры ЦИМС……………………………………………………...9
1.3 Диодно-транзисторная логика………………………………………..11
1.4 Транзисторно-транзисторная логика…………………………………14
1.5 ТТЛ со сложным инвертором…………………………………………16
1.6 ТТЛ с открытым коллекторным выходом……………………………18
1.7 ТТЛ с тремя состояниями на выходе…………………………………19
1.8 ТТЛШ…………………………………………………………………...20
1.9 КМДП…………………………………………………………………...21
2 Операционный усилитель……………………………………………25
2.1 Параметры и характеристики ОУ……………………………………25
2.2 Структура ОУ…………………………………………………………26
2.3 Дифференциальный усилитель………………………………………27
2.4 Составной транзистор………………………………………………..28
2.5 Источники тока……………………………………………………….29
2.6 Схема сдвига уровня…………………………………………………29
2.7 Эмиттерный повторитель…………………………………………….31
2.8 Инвертирующий усилитель на ОУ………………………………..…31
2.9 Неинвертирующий усилитель на ОУ……………………………..…32
3 Технологические основы производства ППИМС…………..………42
3.1 Подготовительные операции…………………………………..……..42
3.2 Эпитаксия……………………………………………………...………43
3.3 Термическое окисление………………………………………………44
3.4 Литография……………………………………………………….……46
3.5 Легирование……………………………………………………………49
3.6 Нанесение тонких пленок………………………………………….….53
4 Полупроводниковые ИМС…………………………………………….56
4.1 Методы изоляции элементов в ППИМС……………………………..58
4.2 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор…………………60
4.3 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор со скрытым слоем………………………………………………………………………64
4.4 Разновидности биполярных транзисторов………………………..…65
4.5 Интегральные диоды ………………………………………………....68
4.6 Полевые транзисторы ………………………………………………...70
4.7 Полупроводниковые резисторы………………………………………75
4.8 Полупроводниковые конденсаторы …………………..…………….78
5 Гибридные ИМС…………………………………………………...….81
5.1 Подложки ГИМС………………………………………………….…..81
5.2 Резисторы ……………………………………………………………....82
5.3 Конденсаторы…………………………………………………………..84
5.4 Катушки индуктивности………………………………………………85
5.5 Пленочные проводники и контактные площадки…………….…….85
5.6 Навесные компоненты…………………………………………………86
5.7 Методы формирования заданной конфигурации пленочных элементов ГИМС…………………………………………………………………….86
Основы теории п/п, p-n-переходы, диоды, Стабилитроны и стабисторы, Варикапы, Биполярные транзисторы, Полевые транзисторы
Содержание
1 Цифровые интегральные микросхемы…………………………….….5
1.1 Основы алгебры логики………………………………………………..5
1.2 Параметры ЦИМС……………………………………………………...9
1.3 Диодно-транзисторная логика………………………………………..11
1.4 Транзисторно-транзисторная логика…………………………………14
1.5 ТТЛ со сложным инвертором…………………………………………16
1.6 ТТЛ с открытым коллекторным выходом……………………………18
1.7 ТТЛ с тремя состояниями на выходе…………………………………19
1.8 ТТЛШ…………………………………………………………………...20
1.9 КМДП…………………………………………………………………...21
2 Операционный усилитель……………………………………………25
2.1 Параметры и характеристики ОУ……………………………………25
2.2 Структура ОУ…………………………………………………………26
2.3 Дифференциальный усилитель………………………………………27
2.4 Составной транзистор………………………………………………..28
2.5 Источники тока……………………………………………………….29
2.6 Схема сдвига уровня…………………………………………………29
2.7 Эмиттерный повторитель…………………………………………….31
2.8 Инвертирующий усилитель на ОУ………………………………..…31
2.9 Неинвертирующий усилитель на ОУ……………………………..…32
3 Технологические основы производства ППИМС…………..………42
3.1 Подготовительные операции…………………………………..……..42
3.2 Эпитаксия……………………………………………………...………43
3.3 Термическое окисление………………………………………………44
3.4 Литография……………………………………………………….……46
3.5 Легирование……………………………………………………………49
3.6 Нанесение тонких пленок………………………………………….….53
4 Полупроводниковые ИМС…………………………………………….56
4.1 Методы изоляции элементов в ППИМС……………………………..58
4.2 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор…………………60
4.3 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор со скрытым слоем………………………………………………………………………64
4.4 Разновидности биполярных транзисторов………………………..…65
4.5 Интегральные диоды ………………………………………………....68
4.6 Полевые транзисторы ………………………………………………...70
4.7 Полупроводниковые резисторы………………………………………75
4.8 Полупроводниковые конденсаторы …………………..…………….78
5 Гибридные ИМС…………………………………………………...….81
5.1 Подложки ГИМС………………………………………………….…..81
5.2 Резисторы ……………………………………………………………....82
5.3 Конденсаторы…………………………………………………………..84
5.4 Катушки индуктивности………………………………………………85
5.5 Пленочные проводники и контактные площадки…………….…….85
5.6 Навесные компоненты…………………………………………………86
5.7 Методы формирования заданной конфигурации пленочных элементов ГИМС…………………………………………………………………….86
Похожие материалы
Учебник Морозов А.Г. Электротехника,электроника и импульсная техника.1987
leher63
: 8 ноября 2008
Морозов А.Г. Электротехника,электроника и импульсная техника.1987
Другие работы
Тепломассообмен ТГАСУ 2017 Задача 1 Вариант 27
Z24
: 2 февраля 2026
Определение мощности электронагревателя для обогрева помещения
Две стены помещения с внутренними размерам, (1 ‒ a·h и 2 ‒ b·h) выложены из красного кирпича толщиной δкп, изолированного с наружной стороны сайдингом толщиной δсд, а с внутренней покрыта слоем штукатурки толщиной δшт.
3 и 4-я стены с размерами (3 ‒ b·h и 4 ‒ a·h) выполнены из панелей толщиной δпн, оштукатуренных с обеих сторон штукатуркой толщиной δшт. Пол и потолок выполнены из железобетонных плит толщиной δжб, где а – длина,
200 руб.
Экзаменационная работа по курсу «Электроника». Вариант: 06
DonTepo
: 11 июня 2012
1.Фотоэлектрические приборы. Устройство. Принцип действия. Характеристики и параметры.
2.Изобразите принципиальную схему базового элемента 2И-НЕ на МДП
транзисторах с индуцированным каналом p-типа. Составьте таблицу истинности. Приведите вид передаточной характеристики. Объясните, какие параметры ЦИМС можно определить с использованием передаточной характеристики.
3.Изобразите принципиальную схему усилительного каскада на МДП ПТ с
индуцированным каналом n-типа.
Приведите передаточную и выходные
50 руб.
Контрольная работа по дисциплине «Информационные системы финансового анализа». Вариант №2
мила57
: 27 мая 2020
Задание №1. Анализ финансового состояния компании
Оценка финансовой устойчивости организации с помощью анализа обеспеченности запасов собственными и заемными средствами
Задание №2. Обзор информационной системы финансового анализа «Мастер финансов: Анализ»
450 руб.
Теплотехника КГАУ 2015 Задача 6 Вариант 56
Z24
: 5 февраля 2026
Определить поверхность нагрева рекуперативного водовоздушного теплообменника при прямоточной и противоточной схемах движения теплоносителей, если объемный расход воздуха при нормальных условиях Vн, средний коэффициент теплопередачи от воздуха к воде k, начальные и конечные температуры воздуха и воды равны соответственно tʹ1, t˝1, tʹ2, t˝2. Определить расход воды G через теплообменник.
220 руб.