Учебник по электронике
Состав работы
|
|
|
|
Работа представляет собой rar архив с файлами (распаковать онлайн), которые открываются в программах:
- Microsoft Word
Описание
Рассматривается принцип работы, характеристики и параметры цифровых и аналоговых микросхем. Кратко описываются технологические процессы, применяемые при изготовлении ИМС.
Основы теории п/п, p-n-переходы, диоды, Стабилитроны и стабисторы, Варикапы, Биполярные транзисторы, Полевые транзисторы
Содержание
1 Цифровые интегральные микросхемы…………………………….….5
1.1 Основы алгебры логики………………………………………………..5
1.2 Параметры ЦИМС……………………………………………………...9
1.3 Диодно-транзисторная логика………………………………………..11
1.4 Транзисторно-транзисторная логика…………………………………14
1.5 ТТЛ со сложным инвертором…………………………………………16
1.6 ТТЛ с открытым коллекторным выходом……………………………18
1.7 ТТЛ с тремя состояниями на выходе…………………………………19
1.8 ТТЛШ…………………………………………………………………...20
1.9 КМДП…………………………………………………………………...21
2 Операционный усилитель……………………………………………25
2.1 Параметры и характеристики ОУ……………………………………25
2.2 Структура ОУ…………………………………………………………26
2.3 Дифференциальный усилитель………………………………………27
2.4 Составной транзистор………………………………………………..28
2.5 Источники тока……………………………………………………….29
2.6 Схема сдвига уровня…………………………………………………29
2.7 Эмиттерный повторитель…………………………………………….31
2.8 Инвертирующий усилитель на ОУ………………………………..…31
2.9 Неинвертирующий усилитель на ОУ……………………………..…32
3 Технологические основы производства ППИМС…………..………42
3.1 Подготовительные операции…………………………………..……..42
3.2 Эпитаксия……………………………………………………...………43
3.3 Термическое окисление………………………………………………44
3.4 Литография……………………………………………………….……46
3.5 Легирование……………………………………………………………49
3.6 Нанесение тонких пленок………………………………………….….53
4 Полупроводниковые ИМС…………………………………………….56
4.1 Методы изоляции элементов в ППИМС……………………………..58
4.2 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор…………………60
4.3 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор со скрытым слоем………………………………………………………………………64
4.4 Разновидности биполярных транзисторов………………………..…65
4.5 Интегральные диоды ………………………………………………....68
4.6 Полевые транзисторы ………………………………………………...70
4.7 Полупроводниковые резисторы………………………………………75
4.8 Полупроводниковые конденсаторы …………………..…………….78
5 Гибридные ИМС…………………………………………………...….81
5.1 Подложки ГИМС………………………………………………….…..81
5.2 Резисторы ……………………………………………………………....82
5.3 Конденсаторы…………………………………………………………..84
5.4 Катушки индуктивности………………………………………………85
5.5 Пленочные проводники и контактные площадки…………….…….85
5.6 Навесные компоненты…………………………………………………86
5.7 Методы формирования заданной конфигурации пленочных элементов ГИМС…………………………………………………………………….86
Основы теории п/п, p-n-переходы, диоды, Стабилитроны и стабисторы, Варикапы, Биполярные транзисторы, Полевые транзисторы
Содержание
1 Цифровые интегральные микросхемы…………………………….….5
1.1 Основы алгебры логики………………………………………………..5
1.2 Параметры ЦИМС……………………………………………………...9
1.3 Диодно-транзисторная логика………………………………………..11
1.4 Транзисторно-транзисторная логика…………………………………14
1.5 ТТЛ со сложным инвертором…………………………………………16
1.6 ТТЛ с открытым коллекторным выходом……………………………18
1.7 ТТЛ с тремя состояниями на выходе…………………………………19
1.8 ТТЛШ…………………………………………………………………...20
1.9 КМДП…………………………………………………………………...21
2 Операционный усилитель……………………………………………25
2.1 Параметры и характеристики ОУ……………………………………25
2.2 Структура ОУ…………………………………………………………26
2.3 Дифференциальный усилитель………………………………………27
2.4 Составной транзистор………………………………………………..28
2.5 Источники тока……………………………………………………….29
2.6 Схема сдвига уровня…………………………………………………29
2.7 Эмиттерный повторитель…………………………………………….31
2.8 Инвертирующий усилитель на ОУ………………………………..…31
2.9 Неинвертирующий усилитель на ОУ……………………………..…32
3 Технологические основы производства ППИМС…………..………42
3.1 Подготовительные операции…………………………………..……..42
3.2 Эпитаксия……………………………………………………...………43
3.3 Термическое окисление………………………………………………44
3.4 Литография……………………………………………………….……46
3.5 Легирование……………………………………………………………49
3.6 Нанесение тонких пленок………………………………………….….53
4 Полупроводниковые ИМС…………………………………………….56
4.1 Методы изоляции элементов в ППИМС……………………………..58
4.2 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор…………………60
4.3 Планарно-эпитаксиальный биполярный транзистор со скрытым слоем………………………………………………………………………64
4.4 Разновидности биполярных транзисторов………………………..…65
4.5 Интегральные диоды ………………………………………………....68
4.6 Полевые транзисторы ………………………………………………...70
4.7 Полупроводниковые резисторы………………………………………75
4.8 Полупроводниковые конденсаторы …………………..…………….78
5 Гибридные ИМС…………………………………………………...….81
5.1 Подложки ГИМС………………………………………………….…..81
5.2 Резисторы ……………………………………………………………....82
5.3 Конденсаторы…………………………………………………………..84
5.4 Катушки индуктивности………………………………………………85
5.5 Пленочные проводники и контактные площадки…………….…….85
5.6 Навесные компоненты…………………………………………………86
5.7 Методы формирования заданной конфигурации пленочных элементов ГИМС…………………………………………………………………….86
Похожие материалы
Учебник Морозов А.Г. Электротехника,электроника и импульсная техника.1987
leher63
: 8 ноября 2008
Морозов А.Г. Электротехника,электроника и импульсная техника.1987
Другие работы
Буровая установка БУ 4000/250
HanRF
: 25 июня 2020
Чертеж буровой установки БУ 4000/250. Компас 3D v17.
150 руб.
Чертежи-Графическая часть-Дипломная работа-Установка комплексной подготовки газа Схема технологическая, Наземное оборудование газоконденсатной скважины АФ 6 - 103 35, Задвижка KTF/A 5k, Задвижка KTF/A 5k модернизированная, Типовые схемы фонтанных армату
https://vk.com/aleksey.nakonechnyy27
: 7 мая 2016
Выходные даны:
Давление скважины 21 МПа;
Диаметр применяемых НКТ - 89мм;
Длина участка ствола из двух задвижек и половины крестовика l=1242мм;
Дебит сопутствующего газового конденсата 4,5 м3/сут;
Толщина шибера h= 3,5см;
Для низких и средних давлений (7 - 35 МПа) рекомендуют применять тройниковую фонтанную арматуру, для средних и высоких давлений (35 - 105 МПа) крестовую арматуру. В соответствии с этими рекомендациями мы выбираем крестовую арматуру.
Скорости движения жидкости или газа в тройника
1392 руб.
Гидромеханика ПетрГУ 2014 Задача 3 Вариант 95
Z24
: 8 марта 2026
Определить диаметр d трубопровода, по которому подается жидкость Ж с расходом Q из условия получения в нем максимально возможной скорости при сохранении ламинарного режима, если известны кинематическая вязкость и массовый расход жидкости.
150 руб.
Основы термодинамики и теплотехники СахГУ Задача 3 Вариант 99
Z24
: 28 января 2026
Покажите сравнительным расчетом целесообразность одновременного повышения начальных параметров и снижения конечного давления пара для паросиловой установки, работающей по циклу Ренкина, определив термический КПД цикла и теоретический удельный расход пара для двух различных значений начальных параметров – давления р1 и температуру t1, конечного давления p2 определите степени сухости пара x2 в конце расширения в обоих случаях.
Покажите сравнительный анализ на диаграмме пара в координатах h-s.
200 руб.