Исследование физико-химических процессов фотолитографии

Содержание
Введение……………………………………………...………..............................3
1. Механизм процесса фотолитографии …...........................................................4
2. Анализ известных видов литографии, их технологических возможностей.……………………….................................................................8
2.1. Рентгеновская литография.......................................................................8
2.2. Электронно-лучевая литография...........................................................11
3. Факторы, влияющие на разрешающую способность различных видов литографии ………….....................................................................................15
3.1. Анализ факторов, влияющих на разрешающую способность контактной фотолитографии……………….…............................................…15
3.2. Анализ факторов, влияющих на разрешающую способность электронной литографии ………………….…................................................17
4. Анализ факторов, определяющих параметры и свойства фоторезисторов..............................................................................................22
Заключение…………………………………………………………………….....25
Список используемых источников…………………………………………......27
Разработка темы «Исследование физико-химических процессов фотолитографии» в настоящее время является весьма актуальной. Фотолитография, являясь на сегодняшний день одной из наиболее часто и широко используемых в микроэлектронике операций, открывает широкие возможности для получения защитных масок с элементами субмикронного размера и в то же время представляет собой один из наиболее сложных, противоречивых процессов в производстве микроэлектронных компонентов. Несомненно, в связи с бурным развитием технологии вообще, и особенно с приближением к ее физическим границам, фотолитография претерпела значительные изменения, и многие исходные утверждения подверглись значительным корректировкам. Также необходимо отметить, что на данный момент только литография обеспечивает возможность массового производства ИС с минимальными критическими размерами.
Данная цель предполагает постановку и решение следующих задач:
1. описать механизм процесса фотолитографии;
2. рассмотреть наиболее известные виды литографии, их технологические возможности ;
3. охарактеризовать факторы, влияющие на разрешающую способность различных видов литографии;
4. провести анализ факторов, определяющих параметры и свойства фоторезисторов .
Предметом исследования выступают физико-химические процессы фотолитографии.
При изучении и написании данной работы, была использована информация, собранная из специальной литературы, экономические консультации справочных систем. Использовались журналы, методические пособия, научные статьи.

Работа сдана в 2012 году.Зачтено