Страницу Назад
Поискать другие аналоги этой работы
550 Исследование физико-химических процессов фотолитографииID: 99552Дата закачки: 27 Июня 2013 Продавец: Помощь студентам СибГУТИ ДО (Напишите, если есть вопросы) Посмотреть другие работы этого продавца Тип работы: Рефераты Форматы файлов: Microsoft Word Сдано в учебном заведении: ТУСУР Описание: Содержание Введение……………………………………………...………..............................3 1. Механизм процесса фотолитографии …...........................................................4 2. Анализ известных видов литографии, их технологических возможностей.……………………….................................................................8 2.1. Рентгеновская литография.......................................................................8 2.2. Электронно-лучевая литография...........................................................11 3. Факторы, влияющие на разрешающую способность различных видов литографии ………….....................................................................................15 3.1. Анализ факторов, влияющих на разрешающую способность контактной фотолитографии……………….…............................................…15 3.2. Анализ факторов, влияющих на разрешающую способность электронной литографии ………………….…................................................17 4. Анализ факторов, определяющих параметры и свойства фоторезисторов..............................................................................................22 Заключение…………………………………………………………………….....25 Список используемых источников…………………………………………......27 Разработка темы «Исследование физико-химических процессов фотолитографии» в настоящее время является весьма актуальной. Фотолитография, являясь на сегодняшний день одной из наиболее часто и широко используемых в микроэлектронике операций, открывает широкие возможности для получения защитных масок с элементами субмикронного размера и в то же время представляет собой один из наиболее сложных, противоречивых процессов в производстве микроэлектронных компонентов. Несомненно, в связи с бурным развитием технологии вообще, и особенно с приближением к ее физическим границам, фотолитография претерпела значительные изменения, и многие исходные утверждения подверглись значительным корректировкам. Также необходимо отметить, что на данный момент только литография обеспечивает возможность массового производства ИС с минимальными критическими размерами. Данная цель предполагает постановку и решение следующих задач: 1. описать механизм процесса фотолитографии; 2. рассмотреть наиболее известные виды литографии, их технологические возможности ; 3. охарактеризовать факторы, влияющие на разрешающую способность различных видов литографии; 4. провести анализ факторов, определяющих параметры и свойства фоторезисторов . Предметом исследования выступают физико-химические процессы фотолитографии. При изучении и написании данной работы, была использована информация, собранная из специальной литературы, экономические консультации справочных систем. Использовались журналы, методические пособия, научные статьи. Комментарии: Работа сдана в 2012 году.Зачтено Размер файла: 258,5 Кбайт Фаил: (.docx)
Скачано: 1 Коментариев: 0 |
||||
Есть вопросы? Посмотри часто задаваемые вопросы и ответы на них. Опять не то? Мы можем помочь сделать! Некоторые похожие работы:К сожалению, точных предложений нет. Рекомендуем воспользоваться поиском по базе. |
||||
Не можешь найти то что нужно? Мы можем помочь сделать! От 350 руб. за реферат, низкие цены. Спеши, предложение ограничено ! |
Вход в аккаунт:
Страницу Назад
Cодержание / Электроника физическая / Исследование физико-химических процессов фотолитографии
Вход в аккаунт: